我国集成电路布图设计权保护探析

       自2001年4月2日《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）正式颁布以来，我国集成电路保护工作已走过了10年的历程。随着时间的推移，一些立法的不足也逐渐显现。为此，我们需要从几方面予以完善和补充，以更好地实现《条例》对集成电路布图设计权的保护，并推动集成电路企业的创新发展。

         成果与收获

       相关数据显示，10年来我国集成电路布图设计登记申请量呈快速增长趋势。2001年至2009年，登记申请量分别为62件、183件、193件、244件、269件、417件、428件、743件、817件;2010年突破900件，2011年突破1000件。截至2011年底，我国已累计申请登记集成电路布图设计达5200件，颁证超过4000件。随着集成电路布图设计登记申请量逐年增长，国家知识产权保护环境的改善，布图设计专有权的商业价值也得以显现。截至2010年6月底，在登记申请时即已投入商业利用的集成电路布图设计共计2374件，占总量的近65%。

       集成电路布图设计较快的申请数量以及较高的商业利用率，推动了我国集成电路产业的快速发展。从产业规模看，我国集成电路产量和销售收入已分别从2005年的266亿块和702亿元，提高到2009年的411亿块和1110亿元。到2010年，我国集成电路产业产量达到800亿块，实现销售收入约3000亿元，年均增长率达到30%，约占世界集成电路市场份额的10%，满足国内30%的市场需求。这为国内企业提供了广阔的发展空间，为“十二五”期间集成电路产业的快速发展奠定了坚实基础。

       同时，我国集成电路产业主要是建立在从国外引进先进技术和投资基础上发展起来的。《条例》的制定和出台为保护投资人的知识产权提供了法律上的保障，极大地促进了集成电路产业的发展资金和技术的引进乃至后来的输出和出口。2010年，我国集成电路进口额达1569.9亿美元，同比增速31%；出口方面，我国集成电路2010年出口额为292.5亿美元，同比增速25.5%。

        不足和问题

       10年来，随着我国集成电路产业的不断发展壮大，10年前制定出台的《条例》越来越不适应今天我国集成电路产业的形势需要，并暴露出一些问题：
立法的层次不高。随着我国集成电路产业的发展，知识产权保护力度的不断加强，我国集成电路保护制度也需要进一步完善。从立法的层面看，从立法权力的位阶上看《条例》与传统的专利法、著作权法、商标法不是一个等级，《条例》是国务院颁布的行政条例，后3个法是全国人大通过的专门法律，效力是不一样的。随着我国集成电路产业的快速发展，其立法层次有待提高。应在调研的基础上，变成人大立法的《集成电路布图设计保护法》。

      《条例》对集成电路的定义过于狭窄。随着科技进步，新材料的不断出现，集成电路制造的材料不再局限于传统意义上的半导体，陶瓷芯片，生物芯片等。而国际上的《集成电路条约》则采用比较广泛的定义，并不局限于半导体集成电路，显然我国的《条例》既与国际上的《集成电路条约》不一致，也落后于科技飞速发展和新材料不断涌现的今天的实际。

      《条例》对授予集成电路布图设计权利的审查存在缺欠。根据《条例》第四条的规定，布图设计除了为“创作者自己的成果”外，还需“不是公认的常规设计”。这实际上是对创造高度的要求，但这里的创造高度比起专利法中的创造性所要求的高度要低得多。因此对于布图设计独创性的要求可以概括为：布图设计的独创性等于“自己创作”加“非常规设计”。根据上述规定，国家知识产权局在对受理的布图设计登记申请进行初步审查的过程中，只需对申请人申请登记的对象或客体是否属于集成电路的布图设计以及是否是延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等进行审查。由于审查的内容不包括申请的主体条件、时间条件和受保护的独创性条件，审查只要达到“无明显不符合”的标准即可。因此，难以保证获得授权的布图设计全部符合授权条件。当被告认为原告的布图设计不符合授权条件，可以根据相关规定向专利复审委员会申请撤销布图设计。而布图设计撤销程序的审理结果必将直接影响侵权案件的处理结果。基于目前布图设计授权登记的审查形式，在侵权案件中，为了保护被告的合法权利和维护生效判决的效力，当被告在案件审理过程中提起撤销布图设计登记的，并提供了相应证据和理由，足以动摇权利稳定性的，法院应当中止审理。因此，笔者认为，目前我国已制定的《条例》缺乏系统性，在法律效力和立法层次上均处于较低水平，权利人登记取得的权力实质上是推定无效权利，无法为集成电路行业发展提供有效的法律和制度保证。

       近年来国家高度重视集成电路布图产业的发展，国务院于2011年颁布了《进一步鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》，在税收、人才、知识产权保护等方面都给与政策倾斜和支持。

       对策及建议

        针对我国集成电路布图产业发展现状，有必要在如下方面予以加强和改善：首先，要着力创新，促进产业联合，加强布图设计专有权保护。“十二五”期间，随着国家产业政策的调整，我国集成电路产业必将飞速发展，其市场竞争也越来越激烈。可以这样说，随着科技进步，集成电路的晶元尺寸越来越小，器件越来越小，线路越来越复杂，一个集成电路除了布图，还含有大量复杂的算法、协议、嵌入式软件，靠简单的复制是不可能获得有生命力的产品的。对于集成电路企业来说，加强自主创新和研发，踏踏实实练好“内功”是根本之策。目前世界知名电子信息企业都在开始逐渐剥离非核心业务，专注于集成电路产品研发、整体方案提供等，除有明显竞争优势的产品自己生产外，其他都外包。与此同时，这些企业还着力于组建以技术标准和知识产权为“要素”的各种联盟，实现强强联合，达到掌控未来技术和垄断战略性新兴产业领域的目的。在这种情况下，我国企业也必须加强创新，促进产业联合，组建专利和集成电路布图设计权同盟，做大做强产业，才能在世界市场中掌握话语权。

        其次，要进一步完善集成电路布图设计权的具体内容。一是创造条件进行实质性审查；二是进一步明确集成电路布图设计的“独创性”要求，判断原则和标准需要进一步清晰，需要有更具体的判断方法，增强可操作性；三是扩大保护对象，将“以半导体材料为基片”改为“以半导体等材料为基片”；四是进一步完善布图设计专有权的撤销程序，应依照专利撤销程序的规定，进一步完善撤销程序和后续的司法救济程序。

        第三，要开展集成电路产业发展知识产权促进工程。促进集成电路产业制定专项知识产权发展战略，提升集成电路企业以及电子整机企业的布图设计保护意识、构建集成电路布图设计信息公共数据库以及检索渠道等。支持集成电路生产企业高度重视知识产权战略的制定与运用。在政策与制度上引导他们在企业内部鼓励创新，积极在国内外申请专利和布图设计权，有计划地进行知识产权布局，构建大量的专利池，将会使我国企业在国内外产生较大的影响，增强企业的知名度，为下一步发展奠定基础。

        第四，要提高立法层次。有必要尽快制定《集成电路布图设计保护法》，为集成电路产业自主创新提供强有力法律保障。关于制定《集成电路布图设计保护法》内容应包括：集成电路产业知识产权的保护要包括从开发研制到产业生产程序中的运用，涉及到的一系列的知识产权的保护；依法保护集成电路布图设计权利人的有关权利以及加强管理等。

        第五，要加强技术标准建设，占领知识产权制高点。应鼓励和支持境内集成电路企业和集成电路产业关联企业，以某些技术单点的创新成就为基础，加强产品价值链上下游环节技术创新和专利开发，以点带面，逐步形成我国自主知识产权技术标准集群。企业和政府共同努力，将谋求事实国际标准与国际标准认定结合起来，大力推进技术标准国际化。企业应积极建设产业联盟，集中同行技术实力，削弱国际同行竞争性标准影响力，促进自主产权技术标准建设。政府则应完善技术标准国内管理，同时，积极参与技术标准国际组织和论坛，推动技术标准国际合作机制改革。

        第六，要帮助“走出去”的集成电路企业保护布图设计权利，加强知识产权贸易摩擦的防范和应对。在全球化的竞争中，自主知识产权是打造集成电路产业核心竞争力的关键。随着我国集成电路企业国际市场销售份额上升，必然引发知识产权纠纷。因此，在我国集成电路企业开拓国际市场过程中，知识产权管理必须要具有前瞻性、防范性。企业要重视加强对自主知识产权的认识，通过制定和实施知识产权战略，提升企业的自主创新能力。企业应划列专项预算资金，设置专业的知识产权管理部门，根据技术和市场形势需要，在“走出去”的国家开展知识产权的登记和授权，诉讼和应诉等工作。如近年来美国已开始对国外企业侵犯其企业集成电路布图设计权利进行调查。我们必须帮助企业学会应对，提供必要的法律援助，帮助企业保护集成电路布图设计权利人的有关权利。

        第七，要大力发展知识产权服务业。随着知识产权事业、产业的发展和自主创新力度的不断增强，知识产权中介服务的瓶颈日益显现。特别是当前在大力培育和运用集成电路布图设计权的过程中,为集成电路布图提供服务的中介机构少、服务能力弱、专业人才不足、集成电路布图设计权缺少交易场所、专利和集成电路布图设计权检索不便等方面的困难，困扰着集成电路生产企业。政府有关部门应采取措施，在“十二五”期间大力培育知识产权服务业，特别是大力发展集成电路布图设计权的代理、转化、交易、司法诉讼的知识产权服务业。通过加快市场培育、加强公共服务为集成电路生产企业培育、运用知识产权提供优质服务。