我国集成电路布图设计登记已经明显超过国外

日期：2007-08-31 来源：新华网作者：浏览量：

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信息产业部所做的集成电路布图设计知识产权态势分析表明，我国集成电路布图设计登记明显超过国外，其比重达到80.93%，国外所占比重为19.17%。其中，尤其以上海表现突出，登记量达到500多件，占半数左右。

　　28日，记者从上海举行的“2007年度电子信息产业标准与知识产权峰会”上了解到，截至2007年7月6日，我国集成电路布图设计登记总量为1374件，其中国内1112件，所占比重达到80.93%，国外262件，所占比重为19.17%。

　　从地区分布来看，我国的上海、江苏、北京、广东、福建、台湾以及美国、日本等地，集成电路布图设计登记量呈现增长趋势。

　　据悉，此项分析采用的数据出自国家知识产权局2007年7月6日以前公告的集成电路设计专有权登记文献。