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ciplawyer@163.com中微董事长反击应用材料诉讼：对手在混淆视听
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应材在“混淆视听”
此前，应材在美国加州对中微提出控告，理由是后者窃取其商业机密开发了半导体设备。
应材在诉状中说，尹志尧辞去应材副总裁兼CTO前，一直管理等离子蚀刻产品团队，参阅过“大量敏感信息和商业机密”，而中微副总裁陈爱华之前担任另一产品经理，熟悉相关专利。他认为，中微如此短时间开发两款设备，显然侵犯了其商业秘密。它也因此认为，中微在美、日等地申请的两项专利，应归它所有，因为此前公司与中微4名高管签过协议，规定任职期间与离开后1年内的专利归于应材。
尹志尧表示，1984年开始，他就先后在英特尔、美国泛林半导体、应材主持等离子刻蚀技术，但这并不意味着中微技术来源于应材。至于陈爱华，其在应材相关部门做的设备，在类别与中微设备有明显不同。
关于专利，尹志尧说应材“完全在推理”，因为其中之一与应材的领域完全无关，而另一项则是基于公开教科书而做的发明。在协议与专利关系上，尹志尧透露，应材有意删掉一个条件，即协议并未规定，4名高管与应材工作无关的专利也归应材所有。
“应材这么做，一定程度上让不明真相的人以为，一些中国人拿了美国的好东西。”尹有些不平地说。他还补充说，全球半数以上的等离子刻蚀技术都与他有关，他目前拥有大约85项（包括正在申请中的）专利。
背后的竞争
双方诉讼的背后，是一种显而易见的商业竞争。中微前不久发布的两类设备，正在中芯国际等多家企业中试运行，这直接威胁到应材的利益。
尹志尧透露了两类设备的巨大市场。一条12英寸生产线，如果产能为5万片，至少需要70台化学薄膜设备、70台等离子刻蚀设备，总价至少4亿美元。未来5年，仅此两项设备的年增长率，至少在10%以上。而目前能研发、生产两类设备的企业，全球分别只有3家。
在技术基础上，尹志尧认为，中微基于亚洲运营的商业与产品策略已对应材构成足够挑战。他说，全球半导体产业已进入成熟期，产业链其他环节均正加速向亚洲尤其中国迁移，而设备业却一直固守原地，这对整个产业发展十分不利，而这也正是他离开应材创立中微的主要原因。
尹志尧表示，公司正在积极应对，而这种诉讼往往大公司败诉的多。
不过，一位半导体产业人士表示，应材财力雄厚，恐怕不在乎输赢，拖住中微，影响其客户关系才是目的。尹志尧坦陈，应材的举动确实让部分客户有了一点疑虑，不过公司有足够信心赢得胜利。
“我们马上将完成第三期融资，大约9000万美元。”他透露，未来公司将寻求在美国或欧洲上市。此前三年，它两期融资额为1.1亿美元。
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