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我国集成电路保护成绩卓然

日期:2010-12-08 来源:国家知识产权局网站 作者: 浏览量:
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        自2001年4月2日《集成电路布图设计保护条例》正式颁布以来,我国集成电路保护工作已走过了将近10年的历程。十年回望,成果丰硕。相关数据显示,截至今年10月31日,我国已累计申请登记集成电路布图设计4044件,颁证3723件,预计今年登记量有望突破900件。与此同时,布图设计专有权的商业价值也得以显现:截至今年6月30日,在登记申请时即已投入商业利用的集成电路布图设计共计2374件,占总量的近65%。

  我国集成电路保护工作取得的丰硕成果,极大地促进了国内集成电路产业的发展。2005年至2009年,我国集成电路产业的销售额从702.1亿元增至1109亿元,年均增长率达17%,远高于同期世界集成电路产业的年均增长率。但另一方面,随着形势的发展,我国集成电路产业也逐渐显露出一些问题,布图设计保护制度与产业实际需求之间也逐步出现了一些差距,如何解决问题、缩小差距、促进产业发展成为当务之急。近日,来自政府部门、法院系统、企业、代理机构的代表与专家学者等齐聚江苏泰州,召开了一次我国集成电路布图设计保护制度的盛会。在这次会议上,参会代表们从各自的工作实践出发,总结经验,提出问题,建言献策,共同谋划我国集成电路产业的美好未来。

  成绩 布图设计登记数量增加 商业利用率较高

  集成电路布图设计的登记数量,在某种程度上反映了集成电路设计企业的设计水平和整体实力。自2001年《集成电路布图设计保护条例》颁布实施以来,我国集成电路布图设计登记申请量呈快速增长趋势。2001年至2009年,登记申请量分别为62件、183件、193件、244件、269件、417件、428件、743件、817件;今年有望突破900件。

  国家知识产权局专利局初审及流程管理部相关负责人介绍,在这些集成电路布图设计登记中,来自国内的申请占87%,来自国外的申请占13%(主要来自美国和日本)。从国内的申请量分布来看,主要集中在上海、江苏、广东、北京和浙江这5省、市,共占总申请量的88%,其他省、市则共占12%。

  在集成电路布图设计登记数量持续增长的同时,我国布图设计的商业利用率也保持了较高的比例。据统计,截至今年6月30日,在登记申请时就已投入商业利用的布图设计共计2374件,占总量的近65%。另外,在过去几年里,集成电路布图设计专有权的复审工作也从无到有,逐渐发展起来。据国家知识产权局专利复审委员会相关负责人介绍,专利复审委员会从2006年开始第1件集成电路布图设计撤销案件的审查以来,迄今已受理5件撤销案件,其中2件已审结,另外3件正在审理中。

  集成电路布图设计较快的申请数量以及较高的商业利用率,推动了我国集成电路产业的快速发展。相关数据显示,2005年至2009年,我国集成电路产业的销售额从702.1亿元增至1109亿元,年均增长率达17%。而同期,世界集成电路产业的销售额年均增长率只有1.54%。在2005年至2007年,我国集成电路产业销售额年均增长率更是分别高达28.8%、43.3%、24.3%,而同期世界集成电路产业的销售额增长率只有6.8%、8.9%、3.8%。

  不足 企业市场竞争力较弱 自主创新能力有待提高

  近10年来,我国集成电路产业取得了很大成绩,但与此同时,随着形势的发展,一些问题也逐渐凸显出来。“主要是产业和企业的市场竞争力较弱。目前,中国大陆集成电路市场排名前十位的企业,都是国外IT巨头企业,如英特尔、三星、海力士、超微、东芝等。”上海市集成电路行业协会副秘书长赵建忠在此次研讨会上表示。

  上海是我国集成电路产业发展最快的地区之一,2001年至2009年,其集成电路产业的销售额占全国集成电路产业销售额的平均比重为16%,2009年更是高达24.8%。“但和国外知名集成电路企业相比,上海集成电路企业目前仍然存在着产业经济规模小、企业年均生产率和人均生产率较低、企业能级低、抗风险能力弱等问题。”赵建忠表示。

  事实上,上海集成电路企业的发展状况,可以说是我国整个集成电路产业的一个缩影。企业年均生产率和人均生产率较低、抗风险能力弱等问题,都与企业核心竞争力较弱密切相关。“与国外大企业相比,我国集成电路企业的创新能力还有待提高。”国家知识产权发展研究中心相关负责人告诉中国知识产权报记者,目前,我国集成电路布图设计专有权人以知名集成电路企业为主,如无锡华润华晶微电子有限公司、上海贝岭股份有限公司、中颖电子(上海)有限公司、无锡日松微电子有限公司、上海华虹集成电路有限责任公司等,但这些企业的专利申请量大都比较少;而国外知名集成电路企业则在我国大多申请了很多专利。

  “与此同时,随着集成电路产业的发展,我国集成电路保护制度也需要进一步完善。例如,从立法的层面看,《集成电路布图设计保护条例》是国务院颁布的行政条例,随着我国集成电路产业的快速发展,其立法层次有待提高。”这位负责人表示。

  在此次研讨会上,来自各个领域的与会代表们也都从自己的实际工作经历出发,对如何更好地保护集成电路布图设计,推动我国集成电路产业发展提出了一些建议和看法。例如,对于集成电路布图设计的“独创性”要求,工业和信息化部软件与集成电路促进中心于鹏认为,判断标准需要进一步清晰,需要有更具体的判断方法;对于布图设计专有权的撤销程序,北京律盟知识产权代理有限责任公司专利部经理刘国伟认为,应该依照专利撤销程序的规定,进一步完善撤销程序和后续的司法救济程序。

  形势 布图设计纠纷不时出现 机遇与挑战并存

  当前,随着经济全球化趋势的增强,知识产权已成为国与国、企业与企业之间重要的竞争手段和博弈工具。当我国企业及产品属于主流产业、高新技术和朝阳产业,其市场份额和成长已经或潜在威胁到相关跨国公司或国外企业,而如果我国企业又没有起码的可以据以“诉讼对冲”或达成交叉许可的专利与其他知识产权储备时,就几乎一定会被相关跨国公司或国外巨鳄企业在中国本土或其母国推上知识产权侵权被告席——在此次研讨会上,多名代表提到了这一无数次被验证的“三一定律”。

  自《集成电路布图设计保护条例》实施以来,我国法院已受理了多起国内相关集成电路企业被诉侵犯国外企业布图设计专有权的案件。例如,2004年2月,美国安那络公司起诉杭州士兰微电子股份有限公司侵犯其集成电路布图设计专有权,这是我国首例集成电路布图设计侵权纠纷案。此后,安那络公司又以同样的理由,将上海贝岭股份有限公司推上了被告席。而随着我国集成电路产业的发展,国内企业被诉案件可能还会不断出现。不仅如此,美、日等集成电路强国还希望将布图设计权的效力进一步延伸,尽管目前我国的集成电路布图设计保护水平已经满足TRIPS协议的要求。

  但另一方面,我国集成电路产业当前也面临着重大发展机遇。“从《国家中长期科学与技术发展规划纲要(2006-2020年)》,到《电子信息产业调整和振兴规划》,再到前不久发布的《国务院关于加快培育和发展战略性新兴产业的决定》,都明确提出要大力发展电子信息这一国民经济的战略性、基础性和先导性支柱产业。而集成电路作为信息产业的基础和核心,必将迎来良好的发展机遇。”赵建忠表示。

  不仅如此,在经历了近10年的发展和积累后,我国集成电路企业已具备了一定的技术实力,不仅布图设计登记数量快速增长,高质量的专利数量也不断增加。部分企业,如设计领域的中兴通讯股份有限公司和制造领域的中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,都已经具备了较强的专利实力。不仅如此,从产业规模看,我国集成电路产量和销售收入已分别从2005年的266亿块和702亿元,提高到2009年的411亿块和1110亿元。目前,我国集成电路市场已占到全球的1/3,这为国内企业提供了广阔的回旋余地和发展空间,为“十二五”期间的快速发展奠定了坚实基础。

  应对 着力创新促进联合 加强布图设计专有权保护

  “随着集成电路产业的飞速发展,其市场竞争越来越激烈。集成电路的晶元尺寸越来越小,器件越来越小,线路越来越复杂,一个集成电路除了布图,还含有大量复杂的算法、协议、嵌入式软件,简单的复制是不可能获得有生命力的产品的。对于集成电路企业来说,不如踏踏实实练好‘内功’,加强自主创新和研发。”深圳市锐能微科技有限公司副总经理赵琮表示。

  中国半导体行业协会与上海硅知识产权交易中心前不久发布的《中国半导体知识产权年度报告》(2010版)显示,近年来,美国、日本企业开始日益重视在我国的集成电路布图设计登记,从2005年起逐渐加大了申请力度。特别是安那络公司,截至2009年12月31日,在我国已申请了145件布图设计登记,远超过任何一家国内企业的申请量。

  赵建忠也表示,目前世界知名电子信息企业都在开始逐渐剥离非核心业务,专注于产品研发、整体方案提供等,除有明显竞争优势的产品自己生产外,其他都外包。与此同时,这些企业还着力于组建以技术标准和知识产权为“要素”的各种联盟,实现强强联合,达到掌控未来技术和欲起新兴战略产业领域的目的。在这种情况下,中国企业也必须加强创新,促进联合,做大做强产业,才能在世界市场中掌握话语权。

  “从集成电路保护工作的角度看,未来,我国应该从3个方面推动集成电路布图设计产业的发展。”国家知识产权发展研究中心相关负责人表示,一是完善集成电路布图设计政策法规,如,规定低标准的职务设计、明确善意侵权的法律责任、完善民事赔偿规定、增加证据保全措施、完善行政保护手段、增强刑事保护措施、严格限制反向工程制度。二是要优化集成电路布图设计登记和复审程序,例如,增加布图设计专有权撤销请求权、增加撤销意见审查程序。三是开展集成电路产业发展促进工程,例如,促进集成电路产业制定专项知识产权发展战略,提升集成电路企业以及电子整机企业的布图设计保护意识、构建集成电路布图设计信息公共数据库以及检索渠道等。(记者 吴艳)

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